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一、原理差異 箱式爐是一種采用電阻絲或電加熱管等進(jìn)行加熱的常溫?zé)崽幚碓O(shè)備。它采用密閉的箱體結(jié)構(gòu),對(duì)物料進(jìn)行可控的加熱處理。而真空爐是一種采用高溫加熱制品的熱處理設(shè)備,通過真空度較高的低壓氛圍環(huán)境下進(jìn)行加熱處理,從而達(dá)到去氣、減氣、熔煉等效果,適用于金屬、合金、陶瓷等高溫高壓處理。 二、特點(diǎn)差異 箱式爐加熱速度較慢,溫度控制準(zhǔn)確度較高,適合于金屬、合金的固溶、退火、時(shí)效處理等。而真空爐則具有強(qiáng)大的除氣、減壓作用,并且在高溫環(huán)境下能夠使制品表面漸漸形成致密的氧化層,防止被污染和氧化,適合于精密制造、電子器件、工具刀具等方面的生產(chǎn)制造。 三、應(yīng)用場(chǎng)景差異 箱式爐適用于一些常用的技術(shù)處理,如低溫固溶、高溫退火、熱處理減震、淬火回火等;而真空爐則更加重視金屬材料的純化加工,如真空精煉、真空熔煉、真空滲碳等,同時(shí)也適用于電子、新材料等行業(yè)領(lǐng)域。 綜合來看,箱式爐和真空爐的適用場(chǎng)景存在一定差異。如果需要進(jìn)行低溫處理,如回火或者時(shí)效等,建議選擇箱式爐;如果需要對(duì)材料進(jìn)行深度加工,或者需要處理一些金屬合金、陶瓷等高溫?zé)崽幚,那么真空爐會(huì)是更好的選擇。 |
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